Damiano Giubertoni

Researcher MTSD | Materials and Topologies for Sensors and Devices

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Investigation on indium diffusion in silicon; S., Solmi; A., Parisini; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; V., Soncini; G., Carnevale; A., Benvenuti; A., Marmiroli; JOURNAL OF APPLIED PHYSICS; 2002; pp. 1361-1366
Arsenic shallow implant characterization by magnetic sector and time of flight SIMS instruments; Bersani, Massimo; Lazzeri, Paolo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Marchi E., Boscolo; Anderle, Mariano; 2002
Arsenic Shallow Implant Characterization by Magnetic Sector and TOF-SIMS Instruments; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Lazzeri, Paolo; Anderle, Mariano; Bersani, Massimo; 15th SIMS Workshop (da 04/29/2002 a 05/02/2002, Clearwater Florida); 2002
XPS and SIMS Depth Profiling of Chlorine in Oxynitrides Obtained by HTO Process; Vanzetti, Lia Emanuela; Bersani, Massimo; M., Sbetti; Iacob, Erica; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; R., Zonca; C., Carpanese; F., Zanderigo; Ecasia 2001 (da 09/30/2001 a 10/05/2001, Avignon, France); 2001
Ultrathin Multilayer Dielectrics Analyses by XPS wet-etching and SIMS profile; Iacob, Erica; M., Sbetti; Barozzi, Mario; Giubertoni, Damiano; Bersani, Massimo; B., Crivelli; R., Zonca; F., Zanderigo; M. E., Vitali; II Silicon Workshop (7-9/2/2001, Genova Italia); 2001
SIMS and ToF-SIMS Quantitative Depth profiles Comparison on Ultra Thin Oxynitrides: Ultimate Depth Resolution Analyses; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Vanzetti, Lia Emanuela; Lazzeri, Paolo; B., Crivelli; F., Zanderigo; 2001
MCs+ and MCs2+ Molecular Ions Emission from Transition Metal Silicides; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Anderle, Mariano; SIMS XIII (da 11/11/2001 a 11/16/2001, Nara (Japan)); 2001
Initial reactions in TiSi bilayers - new indications from in-situ measurements; Roberto, Cocchi; Giubertoni, Damiano; Giampiero, Ottaviani; Tina, Marangon; G., Mastracchio; Giuseppe, Queirolo; A., Sabbadini; JOURNAL OF APPLIED PHYSICS; Vol. 89>; N. 11; 2001; pp. 6079-6084
D-Sims and TOF-SIMS quantitative depth profiles on ultra thin oxinitrides; Bersani, Massimo; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; Vanzetti, Lia Emanuela; Anderle, Mariano; P., Lazzeri; B., Crivelli; F., Zanderigo; 13th International Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry and related topics, SIMS XIII (da 11/11/2001 a 11/16/2001, Nara, Japan); 2001
Investigation of C49-C54 TiSi2 Transformation kinetics; Giampiero, Ottaviani; Rita, Tonini; Giubertoni, Damiano; A., Sabbadini; Tina, Marangon; Giuseppe, Queirolo; Francesco La, Via; MICROELECTRONIC ENGINEERING; Vol. 50>; 2000; pp. 153-158
Depth profiling and quantification of chlorine and nitrogen in oxynitrides obtained by HTO process; Bersani, Massimo; M., Sbettti; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; SIMS EUROPE 2000 (17-19/09/2000, Munster); 2000
Deph profiling and quantification of chlorine and nitrogen in oxynitrides obtained by HTO process; Bersani, Massimo; M., Sbetti; Giubertoni, Damiano; Barozzi, Mario; Iacob, Erica; 2000